[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法有效
| 申请号： | 201210004655.7 | 申请日： | 2005-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102554766A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 小川一幸;下村哲生;数野淳;中井良之;渡边公浩;山田孝敏;中森雅彦 | 申请（专利权）人： | 东洋橡胶工业株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/22 | 分类号： | B24B37/22 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，即使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫将具有研磨区域及透光区域的研磨层和具有比透光区域小的开口部(B)的缓冲层层叠，使得透光区域与开口部(B)重合，并且在所述透光区域的背面与所述开口部(B)的断面的接触部分，设有将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，其将具有研磨区域及透光区域的研磨层和具有比透光区域小的开口部B的缓冲层层叠，使得透光区域与开口部B重合，并且在所述透光区域的背面与所述开口部B的断面的接触部分，设有将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件。
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