[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210004655.7 申请日: 2005-12-08
公开(公告)号: CN102554766A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 小川一幸;下村哲生;数野淳;中井良之;渡边公浩;山田孝敏;中森雅彦 申请(专利权)人: 东洋橡胶工业株式会社
主分类号: B24B37/22 分类号: B24B37/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 研磨 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种研磨垫,其将具有研磨区域及透光区域的研磨层和具有比透光区域小的开口部B的缓冲层层叠,使得透光区域与开口部B重合,并且在所述透光区域的背面与所述开口部B的断面的接触部分,设有将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件。

2.根据权利要求1所述的研磨垫,其中,不透水性弹性构件的ASKERA硬度在80度以下。

3.根据权利要求1所述的研磨垫,其中,不透水性弹性构件是由含有选自由橡胶、热塑性弹性体及反应硬化性树脂构成的组中的至少一种不透水性树脂的不透水性树脂组合物制成。

4.一种制造权利要求1所述的研磨垫的方法,其包括:将具有研磨区域及透光区域的研磨层与具有比透光区域小的开口部B的缓冲层层叠,使得透光区域和开口部B重合的工序;以及通过在所述透光区域的背面与所述开口部B的断面的接触部分,涂布不透水性树脂组合物而将其硬化,来形成将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件的工序。

5.一种制造权利要求1所述的研磨垫的方法,其包括:在具有研磨区域和用于插设透光区域的开口部A的研磨层上层叠缓冲层的工序;将所述开口部A内的缓冲层的一部分除去,在缓冲层上形成比透光区域小的开口部B的工序;在所述开口部B上并且在所述开口部A内设置透光区域的工序;以及通过在所述透光区域的背面与所述开口部B的断面的接触部分,涂布不透水性树脂组合物而将其硬化,来形成将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件的工序。

6.一种制造权利要求1所述的研磨垫的方法,其包括:将具有研磨区域及用于插设透光区域的开口部A的研磨层与具有比透光区域小的开口部B的缓冲层层叠,使得开口部A和开口部B重合的工序;在所述开口部B上并且在所述开口部A内设置透光区域的工序;以及通过在所述透光区域的背面与所述开口部B的断面的接触部分,涂布不透水性树脂组合物而将其硬化,来形成将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件的工序。

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