[发明专利]一种反应等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法有效
申请号: | 201210002114.0 | 申请日: | 2012-01-05 |
公开(公告)号: | CN103194716A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 王文东;闫坤坤;黄春;刘邦武;夏洋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12;C23C4/10 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种反应等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法,包括如下步骤:步骤(1),选取碳化硼粉,并将碳化硼粉送入等离子体喷涂设备;步骤(2),对被喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),通过反应等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出碳化硼涂层。本发明使用甲烷气(CH4)代替氢气作为辅助工作气体进行喷涂,甲烷气电离后具有还原性能保护B4C不被氧化,同时因为气体中含有C,通过其与B4C的反应,可降低甚至防止B4C在高温下的C流失,获得性能良好的B4C涂层。 | ||
搜索关键词: | 一种 反应 等离子 喷涂 制备 碳化 涂层 方法 | ||
【主权项】:
一种反应等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤(1),选取碳化硼粉,并将碳化硼粉送入等离子体喷涂设备;步骤(2),对被喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),选取Ar和CH4为喷涂气体,通过所述等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出碳化硼涂层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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