[发明专利]反射镜，包含这种反射镜的投射物镜，以及包含这种投射物镜的用于微光刻的投射曝光设备有效
| 申请号： | 201180056893.6 | 申请日： | 2011-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN103229248B | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | R.弗赖曼;N.贝尔;G.林巴赫;T.贝姆;G.威蒂克 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)，其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%，以及所述层布置包含至少一个表面层系(P’’’)，其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成，其中所述周期(P3)包含由不同材料构成的两个单独层，该不同材料用于高折射率层(H’’’)和低折射率层(L’’’)，其中所述层布置包含至少一个由石墨烯构成的层(G、SPL、B)。此外，本发明涉及在光学元件上使用石墨烯(G、SPL、B)，用于将表面粗糙度降低至少于0.1nm rms HSFR，和/或用于保护EUV波长范围内的光学元件不遭受辐射导致的不可逆的体积变化大于1%，及/或作为阻挡层，用于在EUV波长范围中防止所谓的多层反射镜的层之间的相互扩散。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 包含 这种 投射 物镜 以及 用于 微光 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种包含基底(S)和层布置的反射镜(1a；1a’；1b；1b’；1c；1c’)，其中，所述层布置被设计为使得以在0°和30°之间的入射角入射于所述反射镜(1a；1a’；1b；1b’；1c；1c’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20％，以及所述层布置包含至少一个表面层系(P”’)，其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成，其中所述周期(P3)包含由用于高折射率层(H”’)和低折射率层(L”’)的不同材料构成的两个单独层，其特征在于：所述层布置包含由石墨烯构成的至少一个层(G、SPL、B)。
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