[发明专利]电荷保持介质的制造方法有效
| 申请号： | 201180056055.9 | 申请日： | 2011-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN103229261A | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 中野贵志;冈野邦子;代田直子;柏木王明;森泽义富;滨谷芳树 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | H01G7/02 | 分类号： | H01G7/02;C09D123/08;C09D127/18;H02N1/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 冯雅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使在基材的表面具有复杂的形状的情况下，也能够在基材的表面简便地形成包含含氟共聚物的涂膜(电荷保持介质的前体)的电荷保持介质的制造方法，其中上述含氟共聚物具有基于四氟乙烯的重复单元和基于乙烯的重复单元。电荷保持介质(驻极体(30))的制造方法包括将包含含氟共聚物(A)和有机溶剂(C)的涂布用组合物涂布于基材(第一基材(10))来形成涂膜的工序，所述含氟共聚物(A)具有基于四氟乙烯的重复单元和基于乙烯的重复单元。 | ||
| 搜索关键词： | 电荷 保持 介质 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种电荷保持介质的制造方法，其包括将包含含氟共聚物(A)和有机溶剂(C)的涂布用组合物涂布于基材来形成涂膜的工序，所述含氟共聚物(A)具有基于四氟乙烯的重复单元和基于乙烯的重复单元。
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