[发明专利]离子铣削装置以及离子铣削加工方法有效
申请号: | 201180054529.6 | 申请日: | 2011-11-21 |
公开(公告)号: | CN103210467A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 渡边俊哉;许斐麻美;高须久幸;上野敦史 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | H01J37/305 | 分类号: | H01J37/305;G01N1/28;G01N1/36;H01J37/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种离子铣削装置以及离子铣削加工方法,通过使试料(3)相对于离子束(2)的光轴(Z轴)倾斜振动,重复进行在如下两状态间的试料(3)的加工面(3a)的倾斜以及倾斜复位,由此,离子束(2)低角度照射向加工面(3a),抑制因空穴(61)、异种物质(62)产生的凹凸(63),其中一状态是试料(3)的加工面(3a)朝向倾斜轴方向(Y轴向)的面状态,其二是从该面状态,加工面(3a)的试料台侧部分相比加工面(3a)的掩膜侧部分更向倾斜轴方向(Y轴向)突出的倾斜面状态。由此,在剖面试料制作时,可以抑制因空穴、异种物质产生的凹凸,可以制作适于观察/分析的试料剖面。 | ||
搜索关键词: | 离子 铣削 装置 以及 加工 方法 | ||
【主权项】:
一种离子铣削装置,其具备摆动机构,该摆动机构使试料台以相对于离子束源照射的离子束的光轴垂直或大致垂直的倾斜轴为中心摆动,从而使保持在该试料台上、且一部分被掩膜遮蔽而不被离子束照射的试料的加工面,沿着垂直于由离子束的光轴和倾斜轴规定的面的面摆动,其特征在于,该离子铣削装置具备倾斜振动机构,该倾斜振动机构使保持在所述试料台上试料以垂直于由离子束的光轴和所述倾斜轴规定的面的轴为中心,在如下两个状态之间,沿着由离子束的光轴和倾斜轴规定的面摆动,其中一个状态是该试料的加工面朝向倾斜轴方向的、沿着离子束的光轴方向的面状态,另一状态是该试料的加工面在离子束的光轴方向上朝向所述离子束源侧倾斜的、离子束的光轴以低角度交叉的面状态。
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