[发明专利]无电镍合金镀液及其沉积过程有效
申请号: | 201180052778.1 | 申请日: | 2011-08-22 |
公开(公告)号: | CN103282545A | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | A.M.F.尼;J.G.杜;R.C.安德烈 | 申请(专利权)人: | OMG电子化学品有限责任公司 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36;C23C18/50 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周李军;李炳爱 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种水性镍磷锡合金无电镀液,以及将镍磷锡合金沉积到基底,特别是用于存储磁盘应用的铝基底上的方法,其中镍磷锡合金沉积物提供增强的热稳定性,所述增强的热稳定性定义为与典型的NiP沉积物相比时在高温退火时的结晶抑制和磁化强度抑制。 | ||
搜索关键词: | 镍合金 及其 沉积 过程 | ||
【主权项】:
一种用于镀覆基底的水性镍磷锡合金无电镀液,所述镀液包含:至少一种镍离子源,其中在约1‑15g/L的范围内提供所述至少一种镍离子源;作为还原剂的次磷酸盐,其中在约10‑50g/L的范围内提供所述次磷酸盐;至少一种螯合剂,其中在约1‑65g/L的范围内提供所述至少一种螯合剂;辅助镀液稳定剂,其中在≤1g/L的范围内提供所述稳定剂;和至少一种亚锡离子源,其中在约0.001‑约0.1g/L的范围内提供所述至少一种亚锡离子源,其中所述镀液pH保持在4‑5。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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