[发明专利]干式清洁壳体、干式清洁设备和干式清洁方法

摘要

一种干式清洁壳体（10），其导致清洁介质（PC）被气流散射并使得清洁介质（PC）与清洁对象（CO）形成接触，以对该清洁对象（CO）进行清洁。所述干式清洁壳体（10）包括其中散射所述清洁介质（PC）的内部空间；与清洁对象（CO）形成接触以导致清洁介质（PC）与该清洁对象（CO）碰撞的开口（10E）；将空气从外侧供给到所述内部空间的通风路径（10F）；吸取经通风路径（10F）引入所述内部空间的空气以在所述内部空间中产生旋转气流的吸取口；以及允许从所述清洁对象（CO）上去除的物质穿过的多孔单元（10C）。

主权项

一种干式清洁壳体，该干式清洁壳体导致清洁介质被气流散射并且使得清洁介质与清洁对象形成接触，以对该清洁对象进行清洁，所述干式清洁壳体包括：内部空间，所述清洁介质在该内部空间中散射；开口，所述开口被构造成与清洁对象接触，以导致清洁介质与该清洁对象碰撞；通风路径，所述通风路径被构造成将空气从外侧供给到所述内部空间；吸取口，所述吸取口被构造成吸取通过所述通风路径引入到所述内部空间内的空气，以在所述内部空间的内侧产生旋转气流；以及多孔单元，该多孔单元被构造成允许从所述清洁对象上消除的物质通过。