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- [发明专利]清洗介质吸引单元及干洗装置-CN201510611502.2有效
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小须田忠司;渕上明弘
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株式会社理光
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2015-09-23
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2018-04-06
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B24C3/02
- 本发明课题在于，提供即使是薄片状的清洗介质也可无堵塞且容易地吸引、有助于提高干洗性能的清洗介质吸引单元。周转箱(4)作为载置于清洗槽内的上部的清洗对象物，若用气枪(10)对周转箱(4)喷射压缩空气，则运送管(18)内变为负压，吸引储存于料斗(16)的清洗介质(22)，从气枪(10)喷射。接触到周转箱(4)的清洗介质(22)落下到料斗(16)，再次被吸起。清洗介质吸引单元(14)包括载置落下的清洗介质的振动板，对该振动板赋与振动的振动源，与振动板的上面之间具有间隙的吸引管，及向层状的清洗介质内部输送空气的吸引管。因振动板的振动，积层状态的清洗介质立起，从吸引管被吸引，供给气枪10。
- 清洗介质吸引单元干洗装置
- [发明专利]干洗设备-CN201280067839.6有效
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渕上明弘;种子田裕介;冈本洋一;村田省藏;塚原兴治
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株式会社理光
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2012-12-26
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2014-09-24
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B08B5/02
- 公开一种干洗设备，包括：第一清洗单元(22)，通过在具有第一开口(10E)的第一壳体(34)内形成第一旋转气流以及使清洗介质(PC)与附着到第一开口(10E)的要清洗物体(8)撞击来进行清洗，第一清洗单元(22)设置在要清洗物体的第一表面(8a)；以及第二清洗单元(24)，通过在具有第二开口(10E)的第二壳体(36)内形成第二旋转气流以及使第二清洗介质(PC)与附着到第二开口(10E)的要清洗物体(8)撞击来进行清洗，第二清洗单元(24)设置在要清洗物体的第二表面(8b)，使得第一开口(10E)和第二开口(10E)彼此面对，其中对要清洗物体(8)的第一表面(8a)和第二表面(8b)进行清洗。
- 干洗设备
- [发明专利]干式清洁箱体和干式清洁设备-CN201180051471.X有效
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渕上明弘;冈本洋一;塚原兴治;种子田裕介;村田省蔵
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株式会社理光
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2011-10-26
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2013-06-26
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B08B7/00
- 一种干式清洁箱体，用于利用被回转气流飞动的介质（5）来对清洁对象进行清洁。该干式清洁箱体包括箱体单元（4）和防泄漏单元（32A）。所述箱体单元（4）包括其中飞动介质（5）的空间（26）；接触对象（20）以便介质（5）与对象（20）碰撞的开口（18a）；空气通过其从外侧流入所述空间（26）的通风路径（24a）；吸取已经通过所述通风路径（24a）被导入所述空间（26）的空气以在所述空间（26）内产生回转气流的吸取开口（8）；以及从对象（20）上去除的物质通过其穿行到吸取开口（8）的多孔单元（14）。在所述箱体单元（4）与所述对象（20）分离时，所述防泄漏单元（32A）通过导致外部空气流入而防止介质（5）泄漏。
- 清洁箱体设备
- [发明专利]用于干式清洁的设备和方法-CN201080061160.7有效
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渕上明弘;冈本洋一;佐藤达哉
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株式会社理光
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2010-09-15
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2012-10-03
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B08B5/00
- 一种清洁设备，包括清洁罐，该清洁罐具有容纳多个柔性薄片清洁介质的空间；清洁目标物体保持单元，该清洁目标物体保持单元被构造成将其上粘附由粘附物质的清洁目标物体保持在清洁罐的内侧；气流发生器单元，该气流发生器单元被构造成产生气流以将多个柔性薄片清洁介质朝向清洁目标物体移动，使得多个柔性薄片清洁介质接触清洁目标物体，以从清洁目标物体上去除粘附物质；以及粘附物质收集单元，该粘附物质收集单元被构造成移动气流，以收集从清洁目标物体上去除的粘附物质。清洁介质的表面包括磨粒，以通过在所述清洁介质中的具有磨粒的表面与清洁目标物体相接触的同时使得清洁介质具有磨粒的表面在清洁目标物体上滑动，来从清洁目标物体上去除粘附物质。
- 用于清洁设备方法
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