[发明专利]用于制造分割光学结构的方法

摘要

本发明涉及一种用于制造分割光学结构（100）的方法，该方法至少包括以下步骤：a)提供基板（1），在所述基板的表面（3）中的一个表面上具有微壁（2），当沿着垂直于所述表面的轴线（X）观测基板（1）时，所述微壁形成多个同轴凹口（5）；b)在至少一个凹口（5）中沉积至少一种材料(10;10a;10b;10c)；c)使步骤b)中沉积的材料(10;10a;10b;10c)的上表面（11）的至少一部分与至少一种液体介质（30）接触，所述至少一种液体介质能够溶解材料(10;10a;10b;10c)并且基本上相对于微壁（2）和基板（1）是惰性的；以及d)向在步骤c)中沉积的液体介质（30）施加离心力，从而修改其在步骤b）中沉积的材料(10;10a;10b;10c)的上表面（11）上的分布，在步骤c)中使用的液体介质（30）的量能够部分地溶解在步骤b)中产生的沉积。

主权项

一种用于制造分割光学结构（100）的方法，该方法至少包括以下步骤：a)提供基板（1），在所述基板（1）的表面（3）中的一个表面上装配有微壁（2），当沿着垂直于所述表面的轴线（X）观测所述基板（1）时，所述微壁形成多个同轴空隙（5）；b)在至少一个空隙（5）中沉积至少一种材料(10;10a;10b;10c)；c)使步骤b)中沉积的所述材料(10;10a;10b;10c)的上表面（11）的至少一部分与至少一种液体介质（30相接触，所述液体介质能够溶解所述材料(10;10a;10b;10c)并且基本上相对于所述微壁（2）和基板（1）是惰性的；以及d)向在步骤c)中沉积的液体介质（30）施加离心力，从而修改其在步骤b）中沉积的所述材料(10;10a;10b;10c)的所述上表面（11）上的分布，在步骤c)中使用的液体介质（30）的量能够部分地溶解步骤b)中产生的沉积。