[发明专利]流体供给装置以及使用该装置清洁薄膜的系统和方法有效
| 申请号： | 201180040207.6 | 申请日： | 2011-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN103079716A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 徐英株;郑在皓;张道基;廉基校;林艺勳;金哉旼;闵庚勳;朴元灿 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 许向彤;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种流体供给装置，其包括：内管，其具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；以及外管，其包围内管设置，并且具有多个狭缝，用于将从孔分配到其中的流体喷射到外部。该外管与内管的长度基本相同。该流体供给装置可以用于薄膜清洁系统或方法中。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 供给 装置 以及 使用 清洁 薄膜 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种流体供给装置，包括：内管，具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；以及外管，设置为包围该内管，并且具有多个狭缝，用于将从所述孔分配到其中的流体喷射到外部。
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