[发明专利]表面改性的硅酸盐发光体无效
申请号: | 201180039682.1 | 申请日: | 2011-07-29 |
公开(公告)号: | CN103068953A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 李贞勋;沃尔特·特沃斯;贡杜拉·罗斯;德特勒夫·斯塔里克 | 申请(专利权)人: | 首尔半导体株式会社;锂特LP股份有限公司 |
主分类号: | C09K11/80 | 分类号: | C09K11/80;C09K11/79;C09K11/59;C09K11/00 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;刘奕晴 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种表面改性的硅酸盐发光体包括硅酸盐发光体以及包覆层,包覆层包括以下的至少一种:(a)氟化的包覆层,包括氟化的无机试剂、氟化的有机试剂或者氟化的无机试剂和有机试剂的组合,所述氟化的包覆层产生疏水的表面位点,以及(b)氟化的包覆层和至少一个潮气阻挡层的组合。所述潮气阻挡层包括MgO、Al2O3、Y2O3、La2O3、Gd2O3、Lu2O3和SiO2或者对应的前驱物,包覆层设置在硅酸盐发光体的表面上。 | ||
搜索关键词: | 表面 改性 硅酸盐 发光体 | ||
【主权项】:
一种表面改性的硅酸盐发光体,包括:硅酸盐发光体;以及包覆层,包括以下的至少一种:氟化的包覆层,包括氟化的无机试剂、氟化的有机试剂或者氟化的无机试剂和氟化的有机试剂的组合,所述氟化的包覆层产生疏水的表面位点;以及氟化的包覆层和至少一个潮气阻挡层的组合,所述潮气阻挡层包括MgO、Al2O3、Y2O3、La2O3、Gd2O3、Lu2O3和SiO2或者对应的前驱物,其中,包覆层设置在硅酸盐发光体的表面上。
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