[发明专利]荧光X射线分析装置及方法

摘要

本发明涉及的荧光X射线分析装置包括：试样台(8)，载置具有结晶构造的试样(S)；X射线源(1)，对试样(S)照射一次X射线(2)；检测机构(7)，检测从试样(S)产生的二次X射线(4)；旋转机构(11)，使试样台(8)旋转；平行移动机构(12)，使试样台(8)平行移动；选择机构(17)，基于与试样(S)的旋转角度和在其角度所产生的二次X射线(4)的强度相对应而取得的衍射图案，来选择至少3个相邻间隔不到180°，且可回避衍射X射线的回避角度；以及控制机构(15)，其控制旋转机构(11)以将试样(S)设定在回避角度，该回避角度为试样台(8)、旋转机构(11)以及平行移动机构(12)不会干涉该装置的其他构造物的角度。

主权项

一种荧光X射线分析装置，其包括：试样台，载置具有结晶构造的试样；X射线源，对试样照射一次X射线；检测机构，检测从试样产生的二次X射线；旋转机构，使该试样台以垂直于试样测定面的轴为中心旋转；平行移动机构，在该旋转机构停止的状态下，使该试样台平行移动，以使一次X射线照射在试样测定面的一半的任意位置；控制机构，将以下衍射图案显示在显示机构，并存储该衍射图案，该衍射图案为一面通过该旋转机构使试样绕着试样的既定点旋转360°，一面从该X射线源照射一次X射线，使从试样产生而入射到该检测机构的二次X射线的强度与试样的旋转角度相对应；以及选择机构，测定者根据显示在该显示机构的衍射图案，来选择至少3个相邻间隔为不到180°，且可回避衍射X射线的回避角度，其特征在于，该控制机构存储由该选择机构所选择的回避角度，对应试样的测定点从该已存储的回避角度之中读出：该试样台、旋转机构以及平行移动机构不会干涉该荧光X射线分析装置的其他构造物的回避角度，由此控制该旋转机构，以将试样设定在该回避角度。