[发明专利]电磁波反射膜及其制造方法无效
| 申请号： | 201180031718.1 | 申请日： | 2011-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102959437A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 浜田聪;竹重彰词;鹿岛启二 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B5/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的主要目的在于提供一种可以制造具有将多个选择反射层直接相接地层叠而成且被选择反射的光当中的扩散反射的比例少的电磁波反射膜的方法。本发明的电磁波反射膜的制造方法的特征在于，包括：第一选择反射层形成工序，使用透明基板，在上述透明基板上涂布第一选择反射层形成用涂布液而形成第一选择反射层形成用层，通过对上述第一选择反射层形成用层照射25mJ/cm2～800mJ/cm2的范围内的紫外线而形成第一选择反射层；第二选择反射层形成工序，使用第二选择反射层形成用涂布液，在上述第一选择反射层上直接相接地涂布上述第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层，通过对上述第二选择反射层形成用层照射紫外线而形成第二选择反射层。通过提供该制造方法来解决上述课题。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁波 反射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电磁波反射膜的制造方法，其特征在于，具有：第一选择反射层形成工序，使用透明基板，在所述透明基板上涂布含有由下述结构式(I)表示的棒状化合物、对所述棒状化合物赋予回旋性的第一手性剂、及第一调平剂的第一选择反射层形成用涂布液，从而形成第一选择反射层形成用层，通过对所述第一选择反射层形成用层照射25mJ/cm2～800mJ/cm2的范围的紫外线而形成第一选择反射层；第二选择反射层形成工序，使用含有由下述结构式(I)表示的棒状化合物、对所述棒状化合物赋予回旋性的第二手性剂、及第二调平剂的第二选择反射层形成用涂布液，在所述第一选择反射层上直接相接地涂布所述第二选择反射层形成用涂布液而形成第二选择反射层形成用层，通过对所述第二选择反射层形成用层照射紫外线而形成第二选择反射层，[化1]![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本印刷株式会社，未经大日本印刷株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180031718.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
