[发明专利]曝光装置有效
| 申请号: | 201180031708.8 | 申请日: | 2011-06-07 |
| 公开(公告)号: | CN102959470A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
| 发明(设计)人: | 水村通伸;畑中诚 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02F1/13;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种曝光装置,其中,形成为能够在与被曝光体的面及光掩模的面平行的面内向箭头(B)方向移动的透镜组装体(11)中,具有将多个单位透镜组装体(11A~11C)以各透镜列(16)的透镜组(15)在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列的方式排列成一列的结构,其中,该多个单位透镜组装体(11A~11C)中,在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列构成为能够将光掩模的掩模图案的等倍正立像成像到被曝光体表面上的多个透镜组(15)而形成多个透镜列(16),且多个单位透镜组装体(11A~11C)以使各透镜列(16)的各透镜组(15)与相对于箭头(B)方向倾斜交叉的轴线(O-O)平行地排列的方式将各透镜列(16)在与箭头(B)方向交叉的方向上相互错开固定量而形成,且具有与轴线(O-O)平行地切除相互相邻的端部(11Aa、11Ba、11Bb、11Ca)的结构。由此,以高析像力进行大面积的被曝光体上的非周期性的图案的曝光。 | ||
| 搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,其特征在于,具备透镜组装体,该透镜组装体形成为能够在载置被曝光体的台架和形成有掩模图案的光掩模之间且在与所述被曝光体的面及所述光掩模的面平行的面内移动,并且,该透镜组装体在与所述移动方向交叉的方向上具有排列成一列的多个单位透镜组装体,所述多个单位透镜组装体在与所述移动方向交叉的方向上以固定的排列间距排列多个透镜组而形成多个透镜列,所述多个透镜组构成为能够将所述光掩模的掩模图案的等倍正立像成像到所述被曝光体表面上,各个所述单位透镜组装体以使各个所述透镜列的各个透镜组与相对于所述透镜组装体的移动方向倾斜交叉的轴线平行地排列的方式将各个所述透镜列在与所述移动方向交叉的方向上相互错开固定量而形成,并且各个所述单位透镜组装体形成与所述轴线平行地切除相互相邻的端部的结构,而且,各个所述透镜列的透镜组配置成在所述透镜组装体的整体上以固定的排列间距排列。
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