[发明专利]曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及经由光掩模向保持在台架上的被曝光体照射曝光光来曝光形成规定的图案的曝光装置，详细而言，涉及能够以高析像力进行大面积的被曝光体上的非周期性的图案的曝光的曝光装置。

背景技术

此种现有的曝光装置经由光掩模对以固定速度输送的被曝光体间歇地照射曝光光，从而使光掩模的掩模图案在规定位置曝光，该曝光装置具备：第一摄像机构，其以对基于上述光掩模得到的曝光位置或比该曝光位置靠上述被曝光体的输送方向跟前侧的位置进行摄像的方式配设，且具有在与上述输送方向大致正交的方向上排列的多个受光元件；第二摄像机构，其以对基于上述光掩模得到的曝光位置或比该曝光位置靠上述被曝光体的输送方向跟前侧的位置进行摄像的方式配设，且具有与上述输送方向大致平行地排列的多个受光元件；校准机构，其使上述被曝光体及光掩模在与上述输送方向大致正交的方向上相对移动，来对基于该光掩模得到的曝光位置进行修正；控制机构，当通过上述第一摄像机构检测出在上述被曝光体上预先设置的曝光位置修正用的第一基准位置时，该控制机构基于其来控制上述校准机构的驱动，当通过上述第二摄像机构检测出在上述被曝光体上预先设置的曝光光的照射时机抽出用的第二基准位置时，该控制机构基于其来控制上述曝光光的照射时机(例如，参照专利文献1)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-76709号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，在这样的现有的曝光装置中，当对被曝光体(基板)进行具有周期性的图案的曝光时，仅向一个方向以固定速度输送基板的同时以规定周期控制曝光光的照射时机就能够容易进行，但难以实现非周期性的图案的曝光。另外，由于使光掩模相对于基板接近对置而进行曝光，因此可能因向光掩模照射的光源光中的视角(平行光半角)的存在，导致基板上的图案的像模糊而使分辨率降低，从而无法将细微的图案曝光形成。

针对这样的问题，通过使用将光掩模的像利用成像透镜向基板上缩小投影而进行曝光的步进曝光装置能够应对，但例如在对1m见方以上的大面积的基板进行曝光的情况下，使用的透镜孔径与基板的大小对应而变大，从而存在成为高价的曝光装置这样的问题。

因此，本发明的目的在于应对这样的问题点，提供一种能够以高析像力进行大面积的被曝光体上的非周期性的图案的曝光的曝光装置。

用于解决课题的手段

为了实现上述目的，本发明的曝光装置具备透镜组装体，该透镜组装体形成为能够在载置被曝光体的台架和形成有掩模图案的光掩模之间且在与所述被曝光体的面及所述光掩模的面平行的面内移动，并且，该透镜组装体在与所述移动方向交叉的方向上具有排列成一列的多个单位透镜组装体，所述多个单位透镜组装体在与所述移动方向交叉的方向上以固定的排列间距排列多个透镜组而形成多个透镜列，所述多个透镜组构成为能够将所述光掩模的掩模图案的等倍正立像成像到所述被曝光体表面上，其中，各个所述单位透镜组装体以使各个所述透镜列的各个透镜组与相对于所述透镜组装体的移动方向倾斜交叉的轴线平行地排列的方式将各个所述透镜列在与所述移动方向交叉的方向上相互错开固定量而形成，并且各个所述单位透镜组装体形成与所述轴线平行地切除相互相邻的端部的结构，而且，各个所述透镜列的透镜组配置成在所述透镜组装体的整体上以固定的排列间距排列。

通过这样的结构，使透镜组装体在与载置于台架上的被曝光体的面及光掩模的面平行的面内移动，同时将光掩模的掩模图案的等倍正立像成像到被曝光体表面上，从而在被曝光体上对非周期性的图案进行曝光，其中，该透镜组装体中，将多个单位透镜组装体以各个透镜列的透镜组整体以固定的排列间距排列的方式配置成一列，所述多个单位透镜组装体以使多个透镜列的以固定的排列间距排列的多个透镜组与相对于透镜组装体的移动方向倾斜交叉的轴线平行地排列的方式将各透镜列在与上述移动方向交叉的方向上相互错开固定量而形成，并且形成与上述轴线平行地切除相互相邻的端部的结构。

另外，在各个所述单位透镜组装体中，以在所述透镜组装体的移动方向上观察时各个所述透镜组的一部分重叠的方式使各个透镜列在与所述移动方向交叉的方向上相互错开。由此，在使透镜组装体移动的同时将光掩模的掩模图案向被曝光体上进行曝光，其中，该透镜组装体以在透镜组装体的移动方向上观察时各透镜列的各透镜组的一部分重叠的方式使相互相邻的透镜列中的一方的透镜列在与上述移动方向交叉的方向上错开规定量而设置。