[发明专利]彩色滤光片基板的曝光方法

摘要

本发明提供一种彩色滤光片基板的曝光方法，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的非显示区域形成伪PS。如图8(a)所示，一边在Y方向上搬运基板20，一边对基板20上的第一非显示区域51(右上斜影线所示的区域)的第一层81进行曝光，一边对显示区域的层91进行曝光。接着，使基板20旋转90度，如图8(b)所示，一边在X方向上搬运基板20，一边对第二非显示区域52(右上斜影线所示的区域)的第二层82进行曝光。并且，如图8(c)所示，通过对基板20进行一次近接(proximity)曝光，来对第一非显示区域51内的第一层81上的第三层83进行曝光，并对第二非显示区域52内的第二层82上的第四层84进行曝光，同时对显示区域40的层92进行曝光。

主权项

一种彩色滤光片基板的曝光方法，上述彩色滤光片基板具有矩形状的显示区域、一对第一非显示区域以及一对第二非显示区域，在上述显示区域上设置多个着色像素及多个光间隔物，在上述第一非显示区域及上述第二非显示区域上设置多个伪光间隔物，上述显示区域具有在第一方向上延伸的一对边、以及在与上述第一方向正交的第二方向上延伸的一对边，上述第一非显示区域沿着上述第一方向上的各边，上述第二非显示区域沿着上述第二方向上的各边，该曝光方法具备以下工序：形成第一层的工序，一边在上述第一方向上搬运涂布有第一颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在上述第一非显示区域内形成第一层，该第一层由与形成上述第一颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成第一伪光间隔物；以及形成第二层的工序，一边在上述第二方向上搬运涂布有第二颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在上述第二非显示区域内形成第二层，上述第二层由与形成上述第二颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成第二伪光间隔物。