[发明专利]彩色滤光片基板的曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于液晶显示装置等的彩色滤光片基板的曝光方法。

背景技术

近年来，随着液晶显示装置的大型化，用于液晶显示装置的彩色滤光片也随之大型化。彩色滤光片的制造工序中，通过光刻法对着色层进行图案化，但大型光掩膜非常高价，导致彩色滤光片的制造成本提高。因此，正在研讨各种使用小型掩膜的新曝光方法。

作为使用小型光掩膜的曝光方法，已知的方式是使用将尺寸比基板小的光掩膜装设于曝光头上的曝光机，一边搬运基板，一边对作为曝光对象的基板整面重复进行曝光(以下称为“小型掩膜连续曝光方式”)。

图15是示出小型掩膜连续曝光方式的曝光方法的俯视图，图16是示出基板、光掩膜及遮光板(blind shutter)之间的位置关系的侧面图。

如图15所示，光掩膜130相对于基板120而配置。例如，在光掩膜上设有与点状的着色像素或光间隔物(photo spacer，以下称为“PS”)对应的多个开口131。一边在图的箭头方向上搬运基板120，一边通过开口131对基板120上的显示区域依次进行晒图，从而形成着色像素或光间隔物(未图示)。

基板120具有形成有着色像素的显示区域140以及包围显示区域140外周的非显示区域150。形成于显示区域140的PS用于在彩色滤光片基板110与作为相对基板的TFT基板贴合时，使两个基板的间隔保持一定。PS会有设于非显示区域150(以下，将设于非显示区域150的PS称为“伪PS”)的情况。在彩色滤光片基板110与TFT基板贴合时，伪PS在使显示区域140外侧的两个基板之间的间隔保持一定，稳定液晶层间隙(cell gap)(装进液晶的液晶层的间隙)方面发挥重要的作用。

一般来说，PS(包含伪PS)并不是配置于彩色滤光片基板内的所有部分，为了不妨碍与TFT布线之间的接触或基板的剪切，彩色滤光片基板上局部地存在没有形成伪PS的区域。在彩色滤光片基板与TFT基板贴合时，由于该没有形成伪PS的区域导致基板弯曲，从而贴合时，在显示区域的应力与在其周围的应力不同。于是，除了要对显示区域内的PS进行调整之外，根据彩色滤光片基板与TFT基板贴合时所产生的应力分布，来对伪PS的配置密度、大小、高度另外进行调整。此外，为了避开与在彩色滤光片基板的制造工序中所需的对准标记(alignment mark)等之间的干扰，将伪PS以不规则的间距配置在非显示区域上。

然而，上述的小型掩膜连续曝光方式由于在基板搬运方向上使相同的图案重复晒图，所以在中途不能切换图案的形状或图案的排列间距。此外，如图15所示，虽然在1片基板120有多个彩色滤光片110被曝光，但此时，夹在排列于基板搬运方向上的显示区域140的部分，不通过与显示区域140相同的光掩膜来进行曝光。于是，如图16所示，设置与基板同步移动的遮光板139，对显示区域140间的区域进行遮光。由此，存在的问题是，不能够对非显示区域150上、沿与基板搬运方向正交的边的部分的伪PS进行曝光。

专利文献

专利文献1 日本特开2006-292955号公报

发明内容

故而，本发明的目的在于提供一种曝光方法，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在彩色滤光片基板的显示区域外侧的非显示区域上有效地形成伪PS。

本发明涉及一种彩色滤光片基板的曝光方法，彩色滤光片基板具有矩形状的显示区域、一对第一非显示区域以及一对第二非显示区域，在显示区域上设置多个着色像素及多个PS，在第一非显示区域及第二非显示区域上设置多个伪PS，显示区域具有在第一方向上延伸的一对边、以及在与第一方向正交的第二方向上延伸的一对边，第一非显示区域沿着第一方向上的各边，第二非显示区域沿着第二方向上的各边。为了形成该彩色滤光片，该曝光方法具备以下工序：形成第一层的工序，一边在第一方向上搬运涂布有第一颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在第一非显示区域内形成第一层，该第一层由与构成第一颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成伪PS；以及形成第二层的工序，一边在第二方向上搬运涂布有第二颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在第二非显示区域内形成第二层，该第二层由与形成第二颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成伪PS。形成第一层的工序和形成第二层的工序按任意顺序进行。

[发明效果]

根据本发明，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的整个非显示区域上，对伪PS进行曝光。

附图说明

图1是示出本发明的各实施方式通用的基本曝光方法的俯视图。