[发明专利]反射膜层叠体有效
| 申请号： | 201180004964.8 | 申请日： | 2011-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN102687044A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 桂翔生;铃木顺;小林宣裕;佐藤俊树 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;B32B15/01;B32B15/04;C23C14/14;C23C14/58;F21V7/22 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的反射膜层叠体，其特征在于，在基体上具有纯Ag膜、或Ag基合金膜作为第1层，在前述第1层上具有选自由Zr、Cr、Nb、Hf、Ta、V、Ni、Mo、W、Al、以及Si组成的组中的1种以上的金属的氧化物膜作为第2层，前述第2层的厚度为0.1～10nm，通过设置前述第2层，反射率的降低为30％以下。这样的反射膜层叠体具有高初期反射率的同时，耐硫化性和耐热性优异，并且具有针孔尽量少的保护膜，其结果是，不易引起由Ag膜的Ag原子的集聚导致的反射率的降低。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 层叠 | ||
【主权项】：
一种反射膜层叠体，其特征在于，在基体上具有纯Ag膜、或Ag基合金膜作为第1层，在所述第1层上具有选自Zr、Cr、Nb、Hf、Ta、V、Ni、Mo、W、Al、以及Si中的1种以上的金属的氧化物膜作为第2层，所述第2层的厚度为0.1～10nm，通过设置所述第2层而带来的反射率的降低为30％以下。
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