[发明专利]化合物薄膜太阳能电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180003677.5 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN102484164A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 中川直之;樱田新哉;西田靖孝;伊藤聪;稻叶道彦 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L31/0749 分类号: H01L31/0749;H01L31/18
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 张楠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是提高化合物薄膜太阳能电池的转换效率或品质寿命,并提高化合物薄膜太阳能电池的性能。化合物薄膜太阳能电池(100)的特征在于:光吸收层和缓冲层形成接合界面,与所述光吸收层形成接合界面的缓冲层是含有选自Cd、Zn、In及Ga之中的至少1种元素以及选自S、Se及Te之中的至少1种元素、且具有闪锌矿型结构、纤锌矿结构或缺陷尖晶石型结构中的任一种晶体结构的化合物,闪锌结构的缓冲层的晶格常数a或者将纤锌矿结构或缺陷尖晶石型结构转换为闪锌矿型结构时的所述缓冲层的晶格常数a为0.59nm~0.62nm。
搜索关键词: 化合物 薄膜 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种化合物薄膜太阳能电池,其特征在于:其具备半导体薄膜作为光吸收层,该半导体薄膜含有Cu、A元素和Te,且具有黄铜矿型的晶体结构,所述A为选自Al、In及Ga之中的至少1种元素;与所述光吸收层形成接合界面的缓冲层是含有选自Cd、Zn、In及Ga之中的至少1种元素以及选自S、Se及Te之中的至少1种元素、且具有闪锌矿型结构、纤锌矿结构或缺陷尖晶石型结构中的任一种晶体结构的化合物;所述闪锌结构的所述缓冲层的晶格常数a或者将所述纤锌矿结构或所述缺陷尖晶石型结构转换为闪锌矿型结构时的所述缓冲层的晶格常数a为0.59nm~0.62nm。
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