[实用新型]晶圆寻边定位装置及蚀刻机台有效

专利信息
申请号: 201120579183.9 申请日: 2011-12-13
公开(公告)号: CN202434487U 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 林塘棋;范俊一 申请(专利权)人: 昆山中辰矽晶有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68;C23F1/08;C23F1/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215316 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开一种晶圆寻边定位装置及蚀刻机台。晶圆寻边定位装置用以对具有平口的晶圆进行寻边定位,包括旋转台、夹具、光源及光侦测器。旋转台在其承载平面上具有第一中心点。当晶圆放置于旋转台上时,夹具用以夹住晶圆,以使得晶圆的第二中心点对准第一中心点。光源发射出光束,光束与承载平面具有接触点,其中第一中心点与接触点之间的距离等于第二中心点与平口之间的最短距离。光侦测器用以侦测光束。蚀刻机台包括该晶圆寻边定位装置、一载板和一气罩。载板用以接收并承载来自该晶圆寻边定位装置的该晶圆。气罩设置于该载板上方,当该气罩盖住该载板时,于该气罩内供应一反应气体。
搜索关键词: 晶圆寻边 定位 装置 蚀刻 机台
【主权项】:
一种晶圆寻边定位装置,用以对具有一平口的一晶圆进行寻边定位,包括:(a)一旋转台,在该旋转台的一承载平面上具有一第一中心点;(b)一夹具,当该晶圆放置于该旋转台上时,用以夹住该晶圆,以使得该晶圆的一第二中心点对准该第一中心点;(c)一光源,发射出一光束,该光束与该承载平面具有一接触点,其中该第一中心点与该接触点之间的距离等于该第二中心点与该平口之间的最短距离;(d)一光侦测器,用以侦测该光束。
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