[实用新型]一种LPCVD工艺中的冷却腔传输系统有效
申请号: | 201120535204.7 | 申请日: | 2011-12-20 |
公开(公告)号: | CN202380078U | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 吴国发;辛科;彭侃 | 申请(专利权)人: | 汉能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种LPCVD工艺中的冷却腔传输系统,具体地讲是涉及一种降低玻璃破碎率的LPCVD工艺中的冷却腔传输系统。该系统包括一组传动滚轮,还包括从动滚轮和由传动滚轮驱动的传送皮带,传动滚轮和从动滚轮分别位于传送皮带传送方向的两端。该系统简化了结构的同时,消除了玻璃基板自身的变形以及局部温度变化过于剧烈等两个导致玻璃破损的因素,降低了玻璃传输过程中的破碎率,提高了生产的稳定性,且易于维护。 | ||
搜索关键词: | 一种 lpcvd 工艺 中的 冷却 传输 系统 | ||
【主权项】:
一种LPCVD工艺中的冷却腔传输系统,包括传动滚轮,其特征在于传动滚轮只有一组,该系统还包括从动滚轮和由传动滚轮驱动的传送皮带,传动滚轮和从动滚轮分别位于传送皮带传送方向的两端。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的