[实用新型]一种用于PLC芯片切割用观测系统的照明结构有效
| 申请号： | 201120450397.6 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN202327863U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 陈子勇;李飞;李昌敏;李鑫 | 申请（专利权）人： | 上海鸿辉光通材料有限公司 |
| 主分类号： | F21S8/00 | 分类号： | F21S8/00;F21V19/00;F21V7/22;G02B6/122 |
| 代理公司： | 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 | 代理人： | 倪继祖 |
| 地址： | 201818*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于PLC芯片切割用观测系统的照明结构，包括垂直设置于待观测PLC芯片正上方的第一光源，所述照明结构还包括光放射装置、第二光源和第三光源，所述光放射装置设置于所述待观测PLC芯片的底部；所述第二光源和第三光源分别设置于所述第一光源的左右两侧，且均相对于被检测PLC芯片以倾斜方式入射。本实用新型与现有技术相比，在待观测的PLC芯片底部装有一个光反射装置，芯片上方装有三个不同角度的光源，通过底部光反射装置的反射和三个不同方向光源的照射，可以比较容易的找出光波导，同时光波导也会比较清楚。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 plc 芯片 切割 观测 系统 照明 结构 | ||
【主权项】：
一种用于PLC芯片切割用观测系统的照明结构，包括垂直设置于待观测PLC芯片正上方的第一光源，其特征在于，所述照明结构还包括光放射装置、第二光源和第三光源，其中：所述光放射装置设置于所述待观测PLC芯片的底部；所述第二光源和第三光源分别设置于所述第一光源的左右两侧，且均相对于被检测PLC芯片以倾斜方式入射。
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