[实用新型]多晶硅还原炉进料喷嘴有效
| 申请号： | 201120264932.9 | 申请日： | 2011-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN202175561U | 公开（公告）日： | 2012-03-28 |
| 发明（设计）人： | 李铁虎;吕献涛;王宏伟;杨红兵 | 申请（专利权）人： | 洛阳万年硅业有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/021 | 分类号： | C01B33/021;C01B33/035 |
| 代理公司： | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人： | 马鹏鹞 |
| 地址： | 471900 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 一种多晶硅还原炉进料喷嘴，含有上部的喷嘴部和下部的安装部，所述上部的喷嘴部内为喷射通道，其喷射通道为圆锥台形状，靠近出料口处的直径最小，靠近安装部处的直径最大。该多晶硅还原炉进料喷嘴，其喷射通道为圆锥台形状，直径越来越小，原料能够在喷射通道内产生聚集，提高了喷嘴的喷射力量，能够将原料直接喷射的反应炉的炉顶部，使原料充满整个反应炉的内部空间，均匀分布，从而能够提高多晶硅棒的成型速度和成型品相，进一步提高成品率，降低多晶硅的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 还原 进料 喷嘴 | ||
【主权项】：
一种多晶硅还原炉进料喷嘴，含有上部的喷嘴部和下部的安装部，其特征是：所述上部的喷嘴部内为喷射通道，其喷射通道为圆锥台形状，靠近出料口处的直径最小，靠近安装部处的直径最大。
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