[实用新型]太阳电池硅片湿法刻蚀补液装置有效
| 申请号： | 201120226067.9 | 申请日： | 2011-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN202164353U | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 叶权华 | 申请（专利权）人： | 常州天合光能有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;H01L31/18;H01L21/306 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人： | 王凌霄 |
| 地址： | 213031 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种太阳电池硅片湿法刻蚀补液装置，包括待刻蚀的硅片和支撑硅片并带动硅片移动的滚轮，硅片下方设有存液槽，硅片上方设有至少两根向硅片正面滴落酸液的补液管道。本实用新型通过设置两根以上的补液管道，在刻蚀过程中向硅片补加新的酸液而来降低刻蚀速率，从而较好地控制刻蚀工艺点，确保刻蚀更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 太阳电池 硅片 湿法 刻蚀 补液 装置 | ||
【主权项】：
一种太阳电池硅片湿法刻蚀补液装置，包括待刻蚀的硅片(1)和支撑硅片(1)并带动硅片(1)移动的滚轮(2)，硅片(1)下方设有存液槽(3)，其特征是：硅片(1)上方设有至少两根向硅片(1)正面滴落酸液的补液管道(4)。
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