[发明专利]一种测量显示装置表面结构的方法有效

专利信息
申请号: 201110461617.X 申请日: 2010-02-09
公开(公告)号: CN102540514A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 林志维;王闵正;陈雍程;刘泓旻 申请(专利权)人: 华映视讯(吴江)有限公司;中华映管股份有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/167;G01B11/02
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 215217 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种测量显示装置表面结构的方法,一种显示装置,包括:第一基板,具有一第一表面,第一图形化遮光层,包含多数第一开口部;至少一第二图形化遮光层,包含多数第二开口部,设置于该第一基板的该第一表面上的该些第一图形化遮光层之间;至少一第一像素单元包含:至少一第一凸起物,分别覆盖于第一图形化遮光层的该些第一开口部;至少一第二凸起物,设置于第一图形化遮光层与该些第二图形化遮光层内;至少一第二像素单元包含:至少一第三凸起物;该些第二图形化遮光层的第二开口部的尺寸小于该些第一图形化遮光层的第一开口部的尺寸。第二图形化遮光层提供较第一图形化遮光层更大的反射平面,使得该第二遮光层净高度的量测结果较第一遮光层净高度的量测结果更为精确且再现性更高。
搜索关键词: 一种 测量 显示装置 表面 结构 方法
【主权项】:
一种测量显示装置表面结构的方法,其特征在于,包含:提供一显示装置,该显示装置包含:一第一基板,具有一第一表面;一第一图形化遮光层,包含多数第一开口部,设置于该第一基板的该第一表面上;至少一第二图形化遮光层,包含多数第二开口部,设置于该第一基板的该第一表面上的该些第一图形化遮光层之间;至少一第一像素单元包含:至少一第一凸起物,分别覆盖于该第一图形化遮光层的该些第一开口部;至少一第二凸起物,设置于该第一图形化遮光层与该些第二图形化遮光层内;至少一第二像素单元包含:至少一第三凸起物,分别覆盖于该第二图形化遮光层的该些开口部;其中该些第二图形化遮光层的第二开口部的尺寸小于该些第一图形化开口;一第二基板,具有一第一表面,该第二基板相对设置于该第一基板的该第一表面的对面;提供一光学式结构量测设备,该光学式结构量测设备包含:一可定位移动平台、一光源、一运算处理单元与一显微镜头,该镜头包含一分光镜、一第一光侦测器与一第二光侦测器;基于该第一凸起物覆盖该第二图形化遮光层的表面,测量一第一高度,该第一高度为该第二图形化遮光层与该第一凸起物的高度差;基于该第二凸起物覆盖该第二图形化遮光层的表面,测量一第二高度,该第二高度为该第二图形化遮光层与该第二凸起物的高度差;计算一第三高度,该第三高度为该第一高度与该第二高度的差值。
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