[发明专利]光刻对准装置、其使用方法及光刻机有效
申请号: | 201110459572.2 | 申请日: | 2011-12-31 |
公开(公告)号: | CN103186060A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 伍强;姚欣 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F9/02 | 分类号: | G03F9/02;G03F7/207 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种光刻对准装置,包括:透镜组;光探测器;位于透镜组与光探测器之间的分光镜,用于将照明光全部反射到位于载物台的衬底的对准记号上,且用于使衬底的对准记号的反射光通过以进入光探测器;具有两个垂直设置的反射面的固定反射镜与具有两个垂直设置的反射面的可动反射镜,所述固定反射镜的两个反射面分别与所述可动反射镜的两个反射面相对,且所述固定反射镜、所述可动反射镜与所述光探测器位于所述透镜组的一侧。本发明还提供了该光刻对准装置的使用方法及包含该光刻对准装置的光刻机。采用本发明的技术方案,满足在载物台的位置无法上下移动情况下,需使掩膜板图案与衬底里对准记号对准的需求。 | ||
搜索关键词: | 光刻 对准 装置 使用方法 | ||
【主权项】:
一种光刻对准装置,包括:透镜组;光探测器;位于透镜组与光探测器之间的分光镜,用于将照明光全部反射到位于载物台的衬底的对准记号上,且用于使衬底的对准记号的反射光通过以进入光探测器;其特征在于,所述光刻对准装置还包括:具有两个垂直设置的反射面的固定反射镜与具有两个垂直设置的反射面的可动反射镜,所述固定反射镜的两个反射面分别与所述可动反射镜的两个反射面相对,且所述固定反射镜、所述可动反射镜与所述光探测器位于所述透镜组的一侧。
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