[发明专利]光刻对准装置、其使用方法及光刻机

权利要求书

1.一种光刻对准装置，包括：

透镜组；

光探测器；

位于透镜组与光探测器之间的分光镜，用于将照明光全部反射到位于载物台的衬底的对准记号上，且用于使衬底的对准记号的反射光通过以进入光探测器；

其特征在于，所述光刻对准装置还包括：具有两个垂直设置的反射面的固定反射镜与具有两个垂直设置的反射面的可动反射镜，所述固定反射镜的两个反射面分别与所述可动反射镜的两个反射面相对，且所述固定反射镜、所述可动反射镜与所述光探测器位于所述透镜组的一侧。

2.根据权利要求1所述的光刻对准装置，其特征在于，所述分光镜使衬底的对准记号的反射光全部通过。

3.根据权利要求1或2所述的光刻对准装置，其特征在于，所述可动反射镜固定在弹性杆的自由端，所述自由端相对的另一端为固定端，所述弹性杆适于在外力下带动可动反射镜向所述固定反射镜靠近或远离。

4.根据权利要求3所述的光刻对准装置，其特征在于，所述弹性杆在竖直位置处，所述固定反射镜的两个反射面分别与所述可动反射镜的两个反射面平行。

5.根据权利要求3所述的光刻对准装置，其特征在于，所述弹性杆的自由端设置有垂直所述弹性杆的弹簧。

6.根据权利要求3所述的光刻对准装置，其特征在于，所述弹性杆的自由端设置有推动所述弹性杆弯曲的驱动装置。

7.根据权利要求6所述的光刻对准装置，其特征在于，所述驱动装置是步进电机的齿轮箱或气动机械。

8.根据权利要求6所述的光刻对准装置，其特征在于，所述弹性杆为磁性材质，所述驱动装置为磁铁。

9.根据权利要求6所述的光刻对准装置，其特征在于，所述弹性杆为压电陶瓷，所述驱动装置为设置在所述弹性杆两侧的正负极板。

10.根据权利要求3所述的光刻对准装置，其特征在于，所述弹性杆的自由端设置有标尺，用于获取所述自由端偏离竖直位置的偏移量。

11.根据权利要求1所述的光刻对准装置，其特征在于，所述光刻对准装置还包括：可动反射镜的控制器，用于获取所述带有对准记号的衬底的高度，在所述高度处，达到光探测器上所述对准记号的成像清晰时，可动反射镜的水平移动距离与光探测器上所成的对准记号的像的移动距离三者之间的关系的表。

12.根据权利要求1所述的光刻对准装置，其特征在于，所述光刻对准装置还包括：存储器，用于存储所述带有对准记号的衬底的高度，在所述高度处，达到光探测器上所述对准记号的成像清晰时，可动反射镜的水平移动距离与光探测器上所成的对准记号的像的移动距离三者之间的关系的表。

13.根据权利要求12所述的光刻对准装置，其特征在于，所述存储器与可动反射镜的控制器相连，所述表由可动反射镜的控制器存入。

14.根据权利要求11所述的光刻对准装置，其特征在于，所述可动反射镜的控制器还用于根据衬底的高度，查表，获得可动反射镜的水平移动距离，调整可动反射镜移动该水平移动距离，使得衬底上的对准记号的像处于光探测器的焦平面上。

15.根据权利要求14所述的光刻对准装置，其特征在于，所述衬底的高度通过光刻机的调平系统获取。

16.根据权利要求1所述的光刻对准装置，其特征在于，所述光探测器为点探测器、线阵列探测器、二维阵列探测器中的至少一种。

17.根据权利要求16所述的光刻对准装置，其特征在于，所述二维阵列探测器使用的是CCD或CMOS。

18.根据权利要求1所述的光刻对准装置，其特征在于，所述光探测器为点探测器、线阵列探测器时，所述探测器前端分别设置有圆孔、矩形的开孔。

19.一种根据权利要求1所述的光刻对准装置的使用方法，其特征在于，包括：

如果载物台的衬底的对准记号位置偏低，转动可动反射镜，使可动反射镜与固定反射镜的距离变近；

如果载物台的衬底的对准记号位置偏高，转动可动反射镜，使可动反射镜与固定反射镜的距离变远。