[发明专利]一种通过定向自组装嵌段共聚物的光刻方法

摘要

本发明提供了一种通过定向自组装嵌段共聚物的光刻方法，该方法在在光刻图案的隔离间隔区的侧壁表面形成侧墙，以光刻图案和侧墙作为掩膜照射PETS层表面形成化学图案，从而减小所述化学图案中的化学改性区域的宽度，然后在具有化学图案的PETS层表面旋涂嵌段共聚物作为自组装层并退火，结合化学引导DSA和形貌引导DSA形成周期性结构域。

主权项

一种通过定向自组装嵌段共聚物的光刻方法，提供一基板，所述基板上沉积苯乙基三氯硅烷PETS层，所述PETS层上涂覆光刻胶，光刻后所述光刻胶图案化形成光刻图案，所述光刻图案包括隔离间隔区和第一沟道，其特征在于，该方法还包括：所述光刻图案表面沉积覆盖层；干法刻蚀所述覆盖层在所述光刻图案的隔离间隔区侧壁形成侧墙；以所述光刻图案和侧墙为掩膜照射所述PETS层，在所述PETS层表面形成化学图案，所述化学图案中化学改性区域的宽度小于所述第一沟道的宽度；剥离所述光刻图案和侧墙；在所述具有化学图案的PETS层表面旋涂嵌段共聚物作为自组装层；所述基板退火后，嵌段共聚物自组装形成聚合物嵌段组合，所述聚合物嵌段组合是具有周期性结构的有序结构域；去除某种聚合物嵌段形成图案化薄膜。