[发明专利]微波匀胶设备及其方法在审
| 申请号： | 201110448765.8 | 申请日： | 2011-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN103182359A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 王燕鹊;王磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B05C11/08 | 分类号： | B05C11/08;B05D3/06 |
| 代理公司： | 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微波匀胶设备，包括：托盘(10)，安装于腔室内部，用于吸附基片(9)；喷嘴(7)，延伸入腔室内部，用于将去离子水、有机溶剂或光刻胶喷射到基片上；微波发生装置(11)，安装于腔室侧壁，用于产生微波对基片提供热量；温控系统(12)，安装于腔室上壁，用于控制微波发生装置(11)以设定微波加热的功率、频率、时间。依照本发明的微波匀胶设备及其方法，采用微波加热脱水，快速蒸发基片内水分，降低涂胶工艺的时间成本、减小环境污染。此外微波干燥施加的热量是从基片内部逐渐扩散到基片外部，从而减小干燥应力，使薄膜涂层既具有低的孔隙度又有较好的强度，避免干凝胶的开裂。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种微波匀胶设备，包括：托盘(10)，安装于腔室内部，用于吸附基片(9)；喷嘴(7)，延伸入腔室内部，用于将去离子水、有机溶剂或光刻胶喷射到基片上；微波发生装置(11)，安装于腔室侧壁，用于产生微波对基片提供热量；温控系统(12)，安装于腔室上壁，用于控制微波发生装置(11)以设定微波加热的功率、频率、时间。
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