[发明专利]用于薄膜沉积的掩模框架组件有效
| 申请号： | 201110434725.8 | 申请日： | 2011-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102586726A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 李相信 | 申请（专利权）人： | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 薛义丹 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于薄膜沉积的掩模框架组件，该掩模框架组件包括：框架；掩模，包括沉积图案并固定到框架上；其中，空气隧道形成在框架和掩模的连接部分中。因此，在执行清洗和干燥工艺的过程中在框架和掩模之间的间隙中可有助于清洗液体的蒸发，以尽快再利用掩模框架组件。因此，可减少残留的清洗液体的量，从而缩短准备利用掩模框架组件的后续工艺所需的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 薄膜 沉积 框架 组件 | ||
【主权项】：
一种用于沉积薄膜的掩模框架组件，所述掩模框架组件包括：框架；掩模，包括沉积图案并固定到框架上；其中，空气隧道形成在框架和掩模的连接部分中。
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