[发明专利]用于薄膜沉积的掩模框架组件

说明书

本申请参照2011年1月11日在韩国知识产权局在先提交的并且适时分配的序列号为10-2011-0002879的申请，将该申请包含于此，并要求该申请的全部权益。

技术领域

本发明总体涉及一种用于沉积薄膜的掩模框架组件，更具体地讲，涉及一种被构造成有助于蒸发在清洗过程中使用的清洗液体的掩模框架组件。

背景技术

有机发光二极管显示器具有宽视角、良好的对比度和快速的响应时间。

在有机发光二极管显示器中，通过利用经阳极和阴极注入的空穴和电子在发光层中复合时产生的光来显示颜色。出于此目的，有机发光二极管显示器具有发光层设置在阳极和阴极之间的堆叠结构。为了获得高的发光效率，可在电极和发光层之间选择性地设置诸如电子注入层、电子传输层、空穴注入层和空穴传输层的中间层。

可通过诸如沉积方法的各种方法来形成有机发光二极管显示器的电极、中间层和发光层。在通过利用沉积方法制造有机发光二极管显示器的过程中，准备具有与将形成在基底上的薄膜的图案对应的图案的掩模，利用该掩模将沉积在基底上的薄膜图案化。可以使用单个大掩模，单个大掩模与框架结合并包括与将形成在基底的整个表面上的图案对应的薄膜图案，或者可以使用包括多个具有棒形状并附于框架上的片段掩模(segment mask)。

在利用掩模执行沉积工艺之后，清洗并干燥掩模，以用于下一个沉积工艺。即，由于在沉积工艺过程中沉积材料附于掩模上，所以利用清洗液体清洗掩模和框架的组件，并通过气刀吹送空气来干燥掩模和框架的组件，从而掩模和框架的组件可用于后续的工艺中。

然而，在清洗和干燥工艺中，在掩模和框架之间的精细间隙中清洗液体不容易被干燥。更具体地讲，由于通过将掩模的端部焊接到框架来形成掩模框架组件，所以即使利用气刀执行干燥工艺，渗透在掩模和框架之间的精细间隙中的清洗液体也不容易被干燥。

如果在后续的沉积工艺中使用了残留有清洗液体的掩模框架组件，则由于残留的清洗液体导致不能精确地执行沉积工艺。例如，如果将残留有清洗液体的掩模框架组件安装在沉积室中，则沉积室的真空度会由于残留的清洗液体而变化，因此沉积质量会劣化。为此，在执行后续的沉积工艺之前，会需要等待长的时间直到掩模框架组件被完全干燥。

在这种情况下，作为在重新利用组件方面的延迟的结果，操作效率降低。因此，需要对策。

发明内容

本发明总体涉及一种用于沉积薄膜的掩模框架组件。在掩模框架组件中，在清洗和干燥工艺之后，可减少掩模和框架之间残留的清洗液体的量。

根据本发明的一方面，一种用于沉积薄膜的掩模框架组件包括：框架；掩模，包括沉积图案并固定到框架上；其中，空气隧道形成在框架和掩模的连接部分中。

空气隧道可形成在掩模的接触框架的区域中，或可形成在框架的接触掩模的区域中。

多个空气隧道可形成在掩模和框架的相互接触的区域中。在这种情况下，形成在掩模中的空气隧道可与形成在框架中的空气隧道对准，以形成同一空间，或者形成在掩模中的空气隧道可不与形成在框架中的空气隧道对准，以形成分开的空间。

空气隧道可形成在连接部分中。

如果掩模的表面为水平面，则空气隧道可以以水平方向、竖直方向或倾斜方向形成。

空气隧道的一端可是开口的，空气隧道的另一端可是闭合的。

掩模可为结合到框架的单个大掩模，或者掩模可包括结合到框架的多个片段掩模。

附图说明

通过参照下面在结合附图考虑时进行的详细描述，随着本发明被更好地理解，对本发明的更完整的理解以及本发明很多附带的优点将变得清楚，在附图中相同的标号表示相同或相似的组件，其中：

图1是示出了根据本发明实施例的掩模框架组件的透视图；

图2A是沿图1中的线II-II截取的剖视图；

图2B是沿图1中的线II’-II’截取的剖视图；

图3是示出了根据本发明另一实施例的掩模框架组件的透视图；

图4A是沿图3中的线IV-IV截取的剖视图；

图4B是沿图3中的线IV’-IV’截取的剖视图；

图5至图8是示出了根据本发明的其它实施例的图1至图3中示出的掩模框架组件的变型示例的示图。

具体实施方式

现在将参照附图来更充分地描述本发明，本发明的示例性实施例示出在附图中。

图1是示出了根据本发明实施例的掩模框架组件的透视图。