[发明专利]半导体器件有效
申请号: | 201110391090.8 | 申请日: | 2011-11-25 |
公开(公告)号: | CN102815658A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 邱义勋;简廷颖;苏钦豪;倪其聪 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | B81B7/00 | 分类号: | B81B7/00;B81B7/02 |
代理公司: | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 陆鑫;房岭梅 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及集成电路制造,而更具体地涉及的是带有金属合金的半导体器件。用于器件的示例性结构包括第一硅衬底;第二硅衬底;以及连接第一硅衬底和第二硅衬底中的每个的触点,其中,该触点包括与第一硅衬底邻近的Ge层、与第二硅衬底邻近的Cu层以及处在Ge层和Cu层之间的金属合金。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:第一硅衬底;第二硅衬底;以及触点,连接所述第一硅衬底和第二硅衬底中的每个,其中,所述触点包括与所述第一硅衬底邻近的Ge层、与所述第二硅衬底邻近的Cu层以及处在所述Ge层和Cu层之间的金属合金。
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