[发明专利]一种自动实现射频功率匹配的方法和系统无效
申请号: | 201110362541.5 | 申请日: | 2011-11-16 |
公开(公告)号: | CN102420579A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 刘鹏;杨伟;席朝晖 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H03H7/38 | 分类号: | H03H7/38;H01J37/32 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种能够主动修正以适应等离子处理腔阻抗改变的系统,该系统不需要改变处理工艺菜单。该主动修正功能可以自动实现并且在加工过程中可以重复执行。本发明包括一个远端的生产控制器存储验证后的工艺菜单,本地的等离子处理器包括一个本地控制器,本地等离子处理器初始根据工艺菜单运行,直到控制系统发现新的能使等离子处理腔的射频功率最小化反的参数,新的参数存储并替换到本地控制器中,后续加工根据新的参数运行。对射频功率的自动调节可以避免对已有经过验证的工艺菜单的修改。自动调节可以采用频率匹配或者射频匹配网络调节来实现。 | ||
搜索关键词: | 一种 自动 实现 射频 功率 匹配 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种运行一个处理系统的方法,所述处理系统包括等离子处理腔、本地控制器、远端生产控制器,所述方法包括:在所述远端生产控制器内存储一个处理工艺菜单,所述处理工艺菜单包括对所述等离子处理腔的射频匹配网络的设定值;用所述工艺菜单的设定值激发所述等离子处理腔;监测所述等离子处理腔的反射功率;改变所述等离子处理腔的射频匹配网络的设定值,以获得最小化的反射功率,以及,在获得最小化的反射功率时,存储新的射频匹配网络设定值到所述本地控制器,并且,继续根据所述处理工艺菜单运行该等离子处理腔,其中射频匹配网络设定值采用存储在所述本地控制器中的所述新的射频匹配网络设定值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备(上海)有限公司,未经中微半导体设备(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110362541.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种带蚊帐支架的床
- 下一篇:电机装配辅助工装改进结构