[发明专利]一种自动实现射频功率匹配的方法和系统

权利要求书

1.一种运行一个处理系统的方法，所述处理系统包括等离子处理腔、本地控制器、远端生产控制器，所述方法包括：

在所述远端生产控制器内存储一个处理工艺菜单，所述处理工艺菜单包括对所述等离子处理腔的射频匹配网络的设定值；

用所述工艺菜单的设定值激发所述等离子处理腔；

监测所述等离子处理腔的反射功率；

改变所述等离子处理腔的射频匹配网络的设定值，以获得最小化的反射功率，以及，在获得最小化的反射功率时，存储新的射频匹配网络设定值到所述本地控制器，并且，

继续根据所述处理工艺菜单运行该等离子处理腔，其中射频匹配网络设定值采用存储在所述本地控制器中的所述新的射频匹配网络设定值。

2.根据权利要求1所述的一种运行一个处理系统的方法，其特征在于：其中改变所述等离子处理腔的射频匹配网络的设定值的步骤包括：

比较当前反射功率和一个阀值，如果当前反射功率超出所述阀值，则执行：

在第一方向上增加所述射频匹配网络的设定值，并判断反射功率是增加或是减少；

如果反射功率增加，则向与第一方向相反的第二方向增加所述射频匹配网络的设定值；

如果反射功率减少，则在第一方向上再次增加所述射频匹配网络的设定值。

3.根据权利要求2所述的一种运行一个处理系统的方法，其特征在于：其中每次增加都是以预设幅度进行。

4.根据权利要求3所述的一种运行一个处理系统的方法，其特征在于：还包括继续沿所述反射功率减少的方向增加所述射频匹配网络的设定值，直到某一次设定值的增加显示所述反射功率开始增加，在这一点下，存储一个替换的设定值到所述本地控制器中。

5.根据权利要求1所述的一种运行一个处理系统的方法，其特征在于：其中对所述射频匹配网络的设定包括对所述射频匹配网络中一可变单元的设定。

6.根据权利要求5所述的一种运行一个处理系统的方法，其特征在于：其中所述可变单元包括一个可变电容。

7.根据权利要求5所述的一种运行一个处理系统的方法，其特征在于：其中所述可变单元包括一个可变电感。

8.一种等离子处理系统，包括：

多个等离子处理平台，每个等离子处理平台具有一个各自的射频功率发射装置；

多个射频匹配网络，每个射频匹配网络分别耦合到一个所述的射频功率发射装置并且所述每个射频匹配网络都包括一个可控的可变单元；

多个射频发生器，每个分别耦合到所述射频匹配网络；

一个耦合到一生产控制器的本地控制器，所述本地控制器根据存储在所述生产控制器中的工艺菜单运行所述多个等离子处理平台，并进一步根据从所述工艺菜单中接收的参数或者存储在所述本地控制器的参数来选择性地调整所述每个射频匹配网络中的所述可控的可变单元。

9.根据权利要求8所述的等离子处理系统，其特征在于：其中所述本地控制器监测每个等离子处理平台的反射功率并调整各自射频匹配网络中的可变单元以最小化反射功率。

10.根据权利要求9所述的等离子处理系统，其特征在于：其中当所述控制器调整所述可控的可变单元以最小化反射功率后，所述控制器存储调整后的设定值到本地控制器但不改变存储在所述生产控制器中的工艺菜单。

11.根据权利要求10所述的等离子处理系统，其特征在于：其中所述可控的可变单元包括可变电容、可变电感和可变电阻之一。

12.根据权利要求10所述的等离子处理系统，其特征在于：其中所述可控的可变单元包括一个可变旁路电容或者一可变旁路电容与其它部件的组合体。