[发明专利]用于电磁可控x射线管中的提高的瞬态响应的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201110354650.2 申请日: 2011-10-26
公开(公告)号: CN102543634A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: C·S·罗杰斯;M·A·弗兰特拉;E·J·韦斯特科特;P·A·扎沃德什基 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H01J35/02 分类号: H01J35/02;H01J35/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张金金;朱海煜
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及用于电磁可控x射线管中的提高的瞬态响应的设备和方法。x射线管组件(14)包括真空罩(52),其包括阴极部(56)、靶部(60)和喉道部(84),该喉道部(84)具有在其中形成以中断在该喉道部(84)中产生的涡流的多个凹陷(102)。该喉道部(84)具有耦合于该阴极部(56)的上游端(110)和耦合于该靶部(60)的下游端(112)。该x射线管组件(14)还包括安置在该真空罩(52)的靶部(60)内的靶(58),和安置在该真空罩(52)的阴极部(56)内的阴极(54)。该阴极(54)配置成通过该喉道部(84)朝该靶(58)发射电子流(68)。
搜索关键词: 用于 电磁 可控 射线 中的 提高 瞬态 响应 设备 方法
【主权项】:
一种x射线管组件(14),其包括:真空罩(52),其包括:阴极部(56);靶部(60);和喉道部(84),其具有在其中形成的用于中断在所述喉道部(84)中产生的涡流的多个凹陷(102),所述喉道部(84)具有耦合于所述阴极部(56)的上游端(110)和耦合于所述靶部(60)的下游端(112);安置在所述真空罩(52)的靶部(60)内的靶(58);和安置在所述真空罩(52)的阴极部(56)内的阴极(54),所述阴极(54)配置成通过所述喉道部(84)朝所述靶(58)发射电子流(68)。
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