[发明专利]Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法无效

专利信息
申请号: 201110338094.X 申请日: 2011-10-31
公开(公告)号: CN102352522A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 杨培霞;安茂忠;崔莹;刘磊;曾鑫;郭伟荣;项昕 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 金永焕
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法,它涉及Ni-Co-B合金代硬铬镀层的制备方法。方法1:取镍盐、钴盐、氯化镍、硼酸、胺硼化合物、NI3#快速高整平镀镍光泽剂A剂和十二烷基硫酸钠;配置合金镀液;镀件经处理后进行电镀。方法2:取氯化镍、钴盐、硼酸、胺硼化合物、NI3#快速高整平镀镍光泽剂A剂和十二烷基硫酸钠;配置合金镀液;镀件经处理后进行电镀。本发明以高于60μm/h的沉积速度获得光亮均匀、硬度为770~800HV50、耐蚀性与结合力良好的Ni-Co-B合金镀层,电镀过程中阴极电流效率高于96%,镀层经过150~400℃下热处理1~3h后硬度可提高至1055~1108HV50。
搜索关键词: ni co 合金 代硬铬 镀层 沉积 制备 方法
【主权项】:
Ni Co B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法,其特征在于Ni Co B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法按以下步骤进行:一、称取60~240g的镍盐、6~24g的钴盐、15~40g的氯化镍、20~50g的硼酸、1~10g的胺硼化合物、1~10ml的NI3#快速高整平镀镍光泽剂A剂和0.01~0.1g的十二烷基硫酸钠;二、在50~70℃的条件下将称取的硼酸溶于200~600ml的水中,然后依次加入镍盐、钴盐、氯化镍和胺硼化合物并搅拌至溶解,再加入十二烷基硫酸钠和N13#快速高整平镀镍光泽剂A剂,然后用NaOH溶液或稀H2SO4溶液调节溶液的pH值至2.0~5.5,再加水定容至1L,获得Ni Co B合金镀液;三、镀件经常规碱性除油或电化学除油后水洗,然后置于体积浓度为10~20%的盐酸中活化,再水洗,之后在电流密度为3~10A/dm2、温度为30~70℃、pH值为2.0~5.5、搅拌方式为阴极移动的条件下电镀20~40min,水洗后吹干,即完成Ni Co B合金代硬铬镀层的电沉积制备;其中步骤一中镍盐为硫酸镍或氨基磺酸镍;步骤一中钴盐为硫酸钴、氯化钴或氨基磺酸钴;步骤一中胺硼化合物为二甲胺硼烷、二乙胺硼烷、三甲胺硼烷、异丙胺硼烷、吡啶硼烷或碳硼烷;步骤二中NaOH溶液的质量浓度为10%,稀H2SO4溶液的体积浓度为20%。
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