[发明专利]柔性衬底硅基多结叠层薄膜太阳电池及其制造方法有效
申请号: | 201110331873.7 | 申请日: | 2011-10-26 |
公开(公告)号: | CN103077981A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 刘成;周丽华;唐道远;杨君坤;王小顺;陈亮;曹娜娜 | 申请(专利权)人: | 上海空间电源研究所 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/076;H01L31/20 |
代理公司: | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人: | 郑丹力 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及光伏太阳电池,公开了一种柔性衬底硅基多结叠层薄膜太阳电池,包括在金属箔或聚酯膜柔性衬底上依次沉积的背反射电极、微晶硅(μc-Si:H)或非晶硅锗(a-SiGe:H)底电池、非晶硅(a-Si:H)顶电池、透明导电薄膜、金属栅线;其中,底电池和顶电池间采用复合隧穿结进行电学连接。本发明还公开了该电池的制造方法,包括:溅射沉积背反射电极、沉积微晶硅或非晶硅锗底电池、沉积非晶硅顶电池、溅射沉积ITO、SnO2·F、ZnO:Al、ZnO:Ga等透明导电薄膜、电化学钝化、制备金属栅线等步骤。本发明提高了电池转化效率和大面积均匀性,获得高效率和高功率重量比等有益效果,同时制备工艺简单,可实现规模化生产。 | ||
搜索关键词: | 柔性 衬底 基多 结叠层 薄膜 太阳电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种柔性衬底硅基多结叠层薄膜太阳电池,其特征在于,该装置包括:在金属箔或聚酯膜柔性衬底上依次沉积背反射电极、微晶硅(μc‑Si:H)或非晶硅锗(a‑SiGe:H)底电池、非晶硅(a‑Si:H)顶电池、透明导电薄膜、金属栅线;所述的微晶硅(μc‑Si:H)或非晶硅锗(a‑SiGe:H)底电池和非晶硅(a‑Si:H)顶电池间采用复合隧穿结进行电学连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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