[发明专利]浸没液体、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201110325529.7 | 申请日： | 2006-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN102385260A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·詹森;马克·凯尔特·斯坦温哥;杰克布思·约翰纳思·利昂纳得斯·亨朱克思·沃斯贝;弗朗西斯克思·约翰内思·圣约瑟·詹森;安东尼·奎吉普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供了一种浸没液体，包括：具有相对较高蒸汽压力的离子形成成分，例如酸或基剂。还提供了使用该浸没液体的光刻方法和光刻系统。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 液体 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：投影系统，所述投影系统将图案化的图像投影到衬底上；用于支撑所述衬底的衬底台；浸没罩，用于将浸没液体限制到所述投影系统的最终元件与所述衬底之间的空间；以及电压发生器，所述电压发生器功能性地连接到所述衬底台、并且功能性地连接到所述光刻装置的第二部件；所述电压发生器能够在所述衬底台与所述第二部件之间建立电压差。
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