[发明专利]浸没液体、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201110325529.7 | 申请日： | 2006-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN102385260A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·詹森;马克·凯尔特·斯坦温哥;杰克布思·约翰纳思·利昂纳得斯·亨朱克思·沃斯贝;弗朗西斯克思·约翰内思·圣约瑟·詹森;安东尼·奎吉普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 浸没 液体 曝光 装置 方法 | ||
1.一种光刻装置，包括：
投影系统，所述投影系统将图案化的图像投影到衬底上；
用于支撑所述衬底的衬底台；
浸没罩，用于将浸没液体限制到所述投影系统的最终元件与所述衬底之间的空间；以及
电压发生器，所述电压发生器功能性地连接到所述衬底台、并且功能性地连接到所述光刻装置的第二部件；所述电压发生器能够在所述衬底台与所述第二部件之间建立电压差。
2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第二部件是浸没罩。
3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述浸没罩形成对所述衬底的无接触密封。
4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述浸没罩包括气体密封，用于形成所述无接触密封。
5.根据权利要求1或2所述的装置，其中，所述衬底台包括传感器或传感器板。
6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述电压发生器能够在所述传感器或传感器板与所述第二部件之间建立电压。
7.根据权利要求5所述的装置，其中，所述传感器包括图像传感器、剂量传感器和像差传感器中的一种或多种。
8.根据权利要求5所述的装置，其中，所述传感器包括一种或多种金属。
9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述传感器包括铬。
10.根据权利要求5所述的装置，其中，所述传感器包括涂层。
11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述涂层是氮化钛涂层。
12.根据权利要求1所述的装置，其中，所述电压差至少为0.1V。
13.根据权利要求1所述的装置，其中，所述电压差至多为50V。
14.一种器件制造方法，包括：
将衬底支撑在衬底台上；
通过投影系统将图案从构图装置转移到衬底上；
将浸没液体限制在所述投影系统的最终元件与所述衬底之间的空间；以及
在所述光刻装置的第二部件与所述衬底台之间建立电压差，所述光刻装置的第二部件和所述衬底台连接至电压发生器。
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