[发明专利]具有预图案化表面特征的磁记录盘及其平坦化方法无效
申请号: | 201110319790.6 | 申请日: | 2011-10-20 |
公开(公告)号: | CN102467916A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | V.P.S.拉瓦特;K.A.鲁宾 | 申请(专利权)人: | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
主分类号: | G11B5/82 | 分类号: | G11B5/82;G11B5/84;G11B5/72 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 冯玉清 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明提供一种具有预图案化表面特征的磁记录盘及其平坦化方法。磁记录盘具有高企的槽脊和凹陷的槽构成的表面特征。化学机械抛光(CMP)停止层沉积在槽脊上和凹陷部中。粘合膜例如硅沉积在CMP停止层上,含有硅氧化物(SiOx)的填充材料沉积在粘合膜上并与之接触。粘合膜改善SiOx填充材料的粘合并防止后续两步CMP平坦化工艺期间的剥离。 | ||
搜索关键词: | 具有 图案 表面 特征 记录 及其 平坦 方法 | ||
【主权项】:
一种磁记录盘,包括:衬底,具有基本平坦的表面;在该衬底上的包括磁记录材料的多个高企的槽脊,所述槽脊具有在该衬底表面之上的上表面;在所述槽脊之间的该衬底上的多个凹陷部,所述凹陷部具有比所述槽脊的上表面低的下表面以及从所述下表面延伸的侧壁;与所述凹陷部的下表面和侧壁接触的化学机械抛光(CMP)停止层;在所述凹陷部中的包含硅和氧的填充材料;以及在所述凹陷部中的在所述CMP停止层和所述填充材料之间并接触所述CMP停止层和所述填充材料的粘合膜。
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