[发明专利]一种纳米压印模板的制备方法无效
| 申请号： | 201110316409.0 | 申请日： | 2011-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN102436140A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 孙堂友;徐智谋;刘文;徐晓丽;李程程;赵文宁;罗敏 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李佑宏 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米压印模板的制备方法，包括如下步骤：(1)在多孔阳极氧化铝模板(PAT)表面旋涂缓冲层；(2)在所述缓冲层上贴布粘连层；(3)在粘连层上粘附硬质衬底；(4)压印；(5)去除Al基底；(6)进行两步干法刻蚀。本发明以多孔氧化铝模板作为初始模板，所制得的四层结构纳米压印模板具有自适应功能，能够克服常规纳米压印中表面颗粒和局部不平整带来的影响，真正实现大面积高精度图形转移的目的，同时，结构和制备工艺上的特殊性，使得压印后能够方便完整的将PAT表面多孔层剥离到衬底表面，进而实现孔状和柱状图形复制的功能，所用原材料廉价易得，制作工艺简单便捷，满足大规模工业生产的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 压印 模板 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种纳米压印模板的制备方法，包括如下步骤：(1)在多孔阳极氧化铝模板(PAT)表面旋涂缓冲层；(2)在所述缓冲层上贴布粘连层；(3)在粘连层上粘附硬质衬底；(4)对经步骤(3)处理后的模板进行压印处理；(5)去除压印处理后的模板的基底层；(6)对去除基底层后的模板进行两步干法刻蚀，即获得纳米压印模板。
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