[发明专利]一种光刻机温控硅片载物台有效
| 申请号： | 201110307982.5 | 申请日： | 2011-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN102445857A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 朱骏;陈力钧 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机温控硅片载物台，包括硅片载物台1，所述硅片载物台1包括圆形放置硅片区域3，其中，所述放置硅片区域3周围设有环抱所述放置硅片区域3的圆环形温度测量装置2。本发明的有益效果是：可以始终控制曝光过程中硅片的温度，防止由于温度导致的硅片形变，进而进一步获得更佳的工艺套准精度及在光刻机连续工作中实现高度的硅片与硅片、批次与批次之间的均匀性，并在实现高精度控制的前提下不损失设备产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 温控 硅片 载物台 | ||
【主权项】：
一种光刻机温控硅片载物台，包括硅片载物台（1），所述硅片载物台（1）包括圆形放置硅片区域（3），其特征在于，所述放置硅片区域（3）周围设有环抱所述放置硅片区域（3）的圆环形温度测量装置（2）。
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