[发明专利]等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201110302693.6 申请日: 2011-09-28
公开(公告)号: CN102421239A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 山泽阳平 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种等离子体处理装置。在感应耦合型等离子体处理装置中,完全地抑制RF天线内的波长效果,并且既在周方向也在径向容易地实现均匀的等离子体处理。在腔室的顶壁部或电介质窗(52)上设置有用于在腔室内生成感应耦合的等离子体的RF天线(54)。该RF天线(54)具有圆环状的内侧线圈(58)和外侧线圈(62)。内侧线圈(58)包括单一的圆形线圈单元(60)。外侧线圈62包括在周方向被分割且整体上形成一圈的两个半圆形线圈单元(64(1))、(64(2))。各个线圈单元(60)、(64(1))、(64(2))与高频供电部(66)电并联连接。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:具有电介质的窗的处理容器;在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部;向所述处理容器内供给期望的处理气体,用于对所述基板实施期望的等离子体处理的处理气体供给部;设置在所述电介质窗之外,用于在所述处理容器内通过感应耦合生成处理气体的等离子体的RF天线;和高频供电部,其向所述RF天线供给适合于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力,其中,所述RF天线具有在空间上沿规定形状和规定尺寸的环串行配置、且电并联连接的多个线圈单元。
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