[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

具有电介质的窗的处理容器；

在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部；

向所述处理容器内供给期望的处理气体，用于对所述基板实施期望的等离子体处理的处理气体供给部；

设置在所述电介质窗之外，用于在所述处理容器内通过感应耦合生成处理气体的等离子体的RF天线；和

高频供电部，其向所述RF天线供给适合于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力，其中，

所述RF天线具有在空间上沿规定形状和规定尺寸的环串行配置、且电并联连接的多个线圈单元。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个线圈单元以整体上掩埋所述环的至少一周或其大部分的方式串行配置。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

在所述多个线圈单元之间，各个所述线圈单元的高频入口端与其它所述线圈单元的高频出口端隔着间隙相邻，各个所述线圈单元的高频出口端与其它所述线圈单元的高频入口端隔着间隙相邻。

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述间隙全部在所述环的周方向上形成。

5.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述间隙的至少一个在与所述环的周方向正交的方向上形成。

6.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个线圈单元整体上绕所述环至少一圈。

7.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个线圈单元中的任一个线圈单元均短于所述高频的1/4波长。

8.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个线圈单元具有大致相等的自感应系数。

9.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

分别在所述多个线圈单元中流动的电流的流向沿所述环全部相同。

10.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

分别在所述多个线圈单元中流动的电流的电流值大致相同。

11.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

具有分别与所述多个线圈单元个别地电串联连接的多个个别阻抗调整部。

12.如权利要求11所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述个别阻抗调整部从所述高频供电部一侧看与所述线圈单元的高频出口一侧连接。

13.如权利要求11所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个个别阻抗调整部均为固定电容器。

14.如权利要求11所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个个别阻抗调整部均为可变电容器。

15.如权利要求11所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个个别阻抗调整部的至少一个为可变电容器。

16.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

具有与所有所述多个线圈单元电串联连接的共用阻抗调整部。

17.如权利要求16所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述共用阻抗调整部的一个电极与所述多个线圈单元连接，另一个电极接地。

18.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述环与所述电介质窗平行。

19.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述环与被保持在所述基板保持部的所述基板同轴。

20.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述环为圆形。