[发明专利]离子注入装置无效
申请号: | 201110300414.2 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN102683147A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 内藤胜男;佐佐木彰 | 申请(专利权)人: | 日新离子机器株式会社 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/02 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 李雪春;武玉琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种离子注入装置,以廉价且简单的装置结构,能够防止离子源产生的微粒混入基板。本发明的离子注入装置(IM)包括:离子源(1),通过离子束引出口(14)朝向与重力方向(G)交差的方向引出离子束(2);输送盘(7),装载有基板(4);掩模(5),安装在输送盘(7)上,且至少具有一个开口部(6);以及驱动机构,通过使输送盘(7)在与离子束(2)交差的方向上移动,使离子束(2)经过掩模(5)上形成的开口部(6),对基板的规定区域进行照射。该离子注入装置还包括防尘板(11),在沿重力方向(G)观察离子束引出口(14)时,该防尘板(11)覆盖离子束引出口(14)的下方,并且不妨碍离子束(2)照射基板(4)。 | ||
搜索关键词: | 离子 注入 装置 | ||
【主权项】:
一种离子注入装置,包括:离子源,通过离子束引出口朝向与重力方向交差的方向引出离子束;输送盘,装载有基板;掩模,安装在所述输送盘上,且至少具有一个开口部;以及驱动机构,通过使所述输送盘在与所述离子束交差的方向上移动,使所述离子束经过所述掩模上形成的开口部,对所述基板的规定区域进行照射,所述离子注入装置的特征在于,还包括防尘板,在沿重力方向观察所述离子束引出口时,所述防尘板覆盖所述离子束引出口的下方,并且不妨碍所述离子束照射所述基板。
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