[发明专利]离子注入装置无效

专利信息
申请号: 201110300414.2 申请日: 2011-09-29
公开(公告)号: CN102683147A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 内藤胜男;佐佐木彰 申请(专利权)人: 日新离子机器株式会社
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/02
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 李雪春;武玉琴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种离子注入装置,以廉价且简单的装置结构,能够防止离子源产生的微粒混入基板。本发明的离子注入装置(IM)包括:离子源(1),通过离子束引出口(14)朝向与重力方向(G)交差的方向引出离子束(2);输送盘(7),装载有基板(4);掩模(5),安装在输送盘(7)上,且至少具有一个开口部(6);以及驱动机构,通过使输送盘(7)在与离子束(2)交差的方向上移动,使离子束(2)经过掩模(5)上形成的开口部(6),对基板的规定区域进行照射。该离子注入装置还包括防尘板(11),在沿重力方向(G)观察离子束引出口(14)时,该防尘板(11)覆盖离子束引出口(14)的下方,并且不妨碍离子束(2)照射基板(4)。
搜索关键词: 离子 注入 装置
【主权项】:
一种离子注入装置,包括:离子源,通过离子束引出口朝向与重力方向交差的方向引出离子束;输送盘,装载有基板;掩模,安装在所述输送盘上,且至少具有一个开口部;以及驱动机构,通过使所述输送盘在与所述离子束交差的方向上移动,使所述离子束经过所述掩模上形成的开口部,对所述基板的规定区域进行照射,所述离子注入装置的特征在于,还包括防尘板,在沿重力方向观察所述离子束引出口时,所述防尘板覆盖所述离子束引出口的下方,并且不妨碍所述离子束照射所述基板。
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