[发明专利]通过形成牺牲结构而提供半导体结构的方法有效
| 申请号： | 201110295461.2 | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102442634A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | B.宾得;B.菲斯特;T.考奇;S.科尔布;M.米勒 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G01L9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 马永利;王忠忠 |
| 地址： | 德国瑙伊比*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明公开了通过形成牺牲结构而提供半导体结构的方法。一种用于提供半导体结构的方法包括通过从衬底的第一主表面蚀刻多个沟而形成牺牲结构。所述方法还包括利用覆盖材料覆盖在所述第一主表面的所述多个沟以限定所述衬底内的腔；从与所述第一主表面相对的第二主表面去除所述衬底的一部分达到所述多个沟存在的深度；以及从所述衬底的所述第二主表面蚀刻掉所述牺牲结构。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 形成 牺牲 结构 提供 半导体 方法 | ||
【主权项】：
一种提供半导体结构的方法，包括：通过从衬底的第一主表面蚀刻多个沟而形成牺牲结构；利用覆盖材料覆盖在所述第一主表面的所述多个沟以限定所述衬底内的腔；从与所述第一主表面相对的第二主表面去除所述衬底的一部分达到所述多个沟存在的深度；以及从所述衬底的所述第二主表面蚀刻掉所述牺牲结构。
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