[发明专利]1053纳米波段的金属介质膜反射式偏振分束光栅有效
| 申请号： | 201110275141.0 | 申请日： | 2011-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN102289014A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 关贺元;晋云霞;刘世杰;汪剑鹏;范正修 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/28 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种1053纳米波段的金属介质膜偏振分束光栅，特点在于其是在石英基底上依次镀制的银层、高反射膜层和矩形光栅构成，该矩形光栅的周期为680.6纳米，占空比为0.2，光栅刻蚀深度为374～476纳米，银层厚度为100纳米，高反射膜层的中间层为高折射率层，内层外层为低折射率层。本发明反射式金属介质膜偏振分束光栅，具有很高的消光比和衍射效率，较宽的带宽和角宽，可以用于高功率激光系统，起到很好的偏振分光效果。 | ||
| 搜索关键词： | 1053 纳米 波段 金属 介质 反射 偏振 光栅 | ||
【主权项】：
一种用于1053纳米波段的金属介质膜偏振分束光栅，其特征在于是在石英基底上，依次镀制的银层（6）、高反射膜层（5）和矩形光栅（1）构成，该矩形光栅（1）的周期为680.6纳米，占空比为0.2，银层（6）厚度为100纳米，刻蚀深度为374~476纳米。
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