[发明专利]一种双层膜补充镀膜工艺有效
| 申请号： | 201110270066.9 | 申请日： | 2011-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102330074A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 覃玺;罗群霞;孙虎;刘亚新 | 申请（专利权）人： | 江阴鑫辉太阳能有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C23C16/34 |
| 代理公司： | 江阴市永兴专利事务所(普通合伙) 32240 | 代理人： | 达晓玲;詹世平 |
| 地址： | 214400 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双层膜补充镀膜工艺，包括：测量获取裸硅折射率d，镀完第一层膜的膜厚度B、折射率e，镀完第二层膜的膜厚度C、折射率f的步骤；测量获取镀膜失败片的膜厚度T、折射率N的步骤；通过折射率判断镀膜中止所处于的层数并对镀膜失败片进行补镀的步骤。本发明使出现镀膜中止的硅片方便的得到补镀，大大的提高了产品的一次良品率，节约了生产成本，而且该发明还具有设备要求低、适用面广、参数控制精确等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双层 补充 镀膜 工艺 | ||
【主权项】：
一种双层膜补充镀膜工艺，其特征在于，包括：测量获取裸硅折射率d，镀完第一层膜的膜厚度B、折射率e，镀完第二层膜的膜厚度C、折射率f的步骤；测量获取镀膜失败片的膜厚度T、折射率N的步骤；通过折射率判断镀膜中止所处于的层数并对镀膜失败片进行补镀的步骤。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
