[发明专利]光伏吸收层溅射镀膜的铜镓合金旋转靶材及制备方法有效
| 申请号： | 201110256279.6 | 申请日： | 2011-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN102286724A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 庄志杰 | 申请（专利权）人： | 基迈克材料科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14;B22D18/06 |
| 代理公司： | 上海宏威知识产权代理有限公司 31250 | 代理人： | 郭春远 |
| 地址： | 215214 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 光伏吸收层溅射镀膜的铜镓合金旋转靶材及制备方法，采用5N以上高纯度铜、镓、铟原料，采用中频感应熔炼的方式熔化上述单一金属或合金，其中先熔化高熔点的金属再熔化低熔点的金属，模具预热，真空环境下进行浇铸，浇铸中保持加温。采用真空熔炼技术在真空环境中，通过对合金材料组分、纯度、晶相以及对精密熔炼工艺的控制，制备出具有杂质含量低、组分均匀性好、气体含量低、无偏析和内部结构优异的铜铟合金旋转靶材。该旋转靶材的使用效率可以达到75-85%，在生产时冷却效果更好，生产连续性明显提高，同时沉积速率和单位时间内的产量显著增加。 | ||
| 搜索关键词： | 吸收 溅射 镀膜 合金 旋转 制备 方法 | ||
【主权项】：
光伏吸收层溅射镀膜的铜镓合金旋转靶材及制备方法，其特征是：采用5N以上高纯度铜、镓、铟原料，采用中频感应熔炼的方式熔化上述单一金属或合金，其中先熔化高熔点的金属再熔化低熔点的金属，模具预热，真空环境下进行浇铸，浇铸中保持加温。
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